美国Trion去胶机 Gemini 和Apollo

美国Trion Technology
反应式离子刻蚀(RIE/ICP)系统及沉积(PECVD)系统
 
Trion始于一九八九年的等离子刻蚀与沉积系统制造商，Trion为化合物半导体、MEMS(微机电系统)、光电器件以及其他半导体市场提供多种设备。我们的产品在业内以系统占地面积较小、成本低而着称，且设备及工艺的可靠性和稳定性久经考验。从整套的批量生产用设备，到简单的实验室研发用系统，尽在Trion。 

批量生产用设备-去胶系统Gemini 和Apollo :
 


- 低损伤去胶系统

新式去胶系统的成本已攀升到不合理水平，但Trion已通过两套价格低廉、紧凑的多功能系统使这一关键问题得到解决：Gemini和Apollo。利用ICP(电感耦合等离子)、微波和射频偏置功率，可以在低温条件下将难于消除的光刻胶去除。根据应用要求，每套系统可以结合SST-Lightning 微波源(既可靠又没有任何常见的微波调谐问题) 或ICP 技术。

? 刻蚀速率高达6微米/分 
? 高产量
? 等离子损伤低 
? 自动匹配单元
? 适用于100mm 到300mm 基片 
? 设备占地面积小
? 价格具竞争性