美TRION Oracle III 反应离子刻蚀与沉积系统

美国Trion Technology
反应式离子刻蚀(RIE/ICP)系统及沉积(PECVD)系统
 
Trion始于一九八九年的等离子刻蚀与沉积系统制造商，Trion为化合物半导体、MEMS(微机电系统)、光电器件以及其他半导体市场提供多种设备。我们的产品在业内以系统占地面积较小、成本低而着称，且设备及工艺的可靠性和稳定性久经考验。从整套的批量生产用设备，到简单的实验室研发用系统，尽在Trion。 

批量生产用设备:

Oracle III反应离子刻蚀与沉积系统

由*真空传输系统(CVT)、真空盒升降机和较多四个工艺反应室构成。这些工艺反应室与*负载锁对接，既能够以生产模式运行，也能够作为单个系统独立作业。 Oracle III是市场上较灵活的系统，既可以为实验室环境进行配置(使用单基片装卸)，也可以为批量生产进行配置(使用真空盒升降机进行基片传送)。

由于Oracle III 较多可容纳四个独立的工艺室，其可以有多种不同的工艺组合，其中包括RIE/ICP (反应离子刻蚀机/电感耦合等离子)刻蚀和PECVD 沉积。多个室可以同时工作。鉴于所有工艺室均有真空负载锁，工艺运行安全且没有大气污染。