晶圆清洗机SWC-4000

产品名称：SWC-4000兆声晶圆清洗机
产品特点：SWC-4000兆声晶圆清洗机：Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及Z先进的兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了**的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。
SWC-4000兆声晶圆清洗机应用：
?带图案或不带图案的掩模版和晶圆片
?Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗
?CMP处理后的晶圆片清洗
?晶圆框架上的切粒芯片清洗
?等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗
?带保护膜的分划版清洗
?掩模版空白部位或接触部位清洗
?X射线及较紫外掩模版清洗
?光学镜头清洗
?ITO涂覆的显示面板清洗
?兆声辅助的剥离工艺

特点：
?支持12"直径的圆片或9"x9"方片
?独立系统
?无损兆声,试剂，毛刷清洗及旋转甩干
?微处理机自动控制
?化学试剂滴胶单元
?溶剂与酸分离排废
?热氮
?30"D x 26"W 的占地面积

选配项：
?掩模板或晶圆片夹具
?臭氧清洗
?PVA软毛刷清洗
?高压DI清洗
?氮气离子发生器