日本SEN是世界上光清洗,质改设备以及光源的启发者,代表着技术标准和方向。 深圳市蓝星宇电子科技有限公司(LXYUV) 总代理全系列SEN产品、光清洗/质改设备及光源, 希望能协助合作伙伴生产出较优秀的产品。 SEN UV清洗灯规格如下: 型 号 功 率w 寿 命H 冷却方式 详细资料 SUV40US-12 40 5000 水冷,风冷 见图纸 SUV40US-32 40 5000 水冷,风冷 见图纸 SUV40US-43 40 5000 水冷,风冷 见图纸 SUV40DS-81 40 5000 水冷,风冷 见图纸 SUV40GS-64/65 40 5000 风冷 见图纸 SUV70US-43 70 5000 水冷,风冷 见图纸 SUV70DS-81 70 5000 水冷 见图纸 SUV90US-43 90 5000 水冷,风冷 见图纸 SUV90USL-48 90 5000 风冷 见图纸 SUV90USL-51 90 5000 水冷,风冷 见图纸 SUV90USL-52 90 5000 水冷,风冷 见图纸 SUV90USL-53 90 5000 水冷,风冷 见图纸 SUV90US-55 90 5000 水冷,风冷 见图纸 SUV90US-58 90 5000 水冷,风冷 见图纸 SUV90US-59 90 5000 水冷,风冷 见图纸 SUV90DS-81 90 5000 水冷,风冷 见图纸 SUV90US-88 90 5000 水冷,风冷 见图纸 MSW-90 90 5000 风冷 见图纸 SUV110DS-81 110 5000 水冷 见图纸 SUV110GS-36 110 5000 风冷 见图纸 SUV110US-42 110 5000 水冷,风冷 见图纸 SUV110US-43 110 5000 风冷 见图纸 SUV110US-48 110 5000 水冷,风冷 见图纸 SUV110US-49 110 5000 水冷,风冷 见图纸 SUV110US-51 110 5000 风冷 见图纸 SUV110US-53 110 5000 水冷 见图纸 SUV110US-59 110 5000 水冷,风冷 见图纸 SUV110US-68 110 5000 水冷,风冷 见图纸 SUV110US-94 110 5000 水冷,风冷 见图纸 SUV110US-99 110 5000 水冷,风冷 见图纸 SUV110WS-55 110 5000 水冷,风冷 见图纸 SUV110US-88 110 5000 水冷,风冷 见图纸 EUV200GS-14 110 5000 风冷 见图纸 EUV200GS-31 200 5000 水冷,风冷 见图纸 EUV200GS-51 200 5000 水冷,风冷 见图纸 EUV200GS-91 200 5000 水冷,风冷 见图纸 EUV200US-77 200 5000 水冷,风冷 见图纸 EUV200US-84 200 5000 水冷,风冷 见图纸 EUV200US-88 200 5000 水冷,风冷 见图纸 EUV200US-90 200 5000 水冷 见图纸 EUV200US-98 200 5000 水冷,风冷 见图纸 EUV200NS-17 200 5000 水冷,风冷 见图纸 EUV200NS-35 200 5000 水冷,风冷 见图纸 EUV200NS-36 200 5000 水冷 见图纸 EUV200NS-51 200 5000 水冷,风冷 见图纸 EUV200NS-91 200 5000 水冷,风冷 见图纸 EUV200WS-18 200 5000 水冷 见图纸 EUV200WS-19 200 5000 水冷,风冷 见图纸 EUV200WS-20 200 5000 水冷,风冷 见图纸 EUV200WS-47 200 5000 水冷,风冷 见图纸 EUV200WS-50 200 5000 水冷,风冷 见图纸 EUV200WS-60 200 5000 水冷 见图纸 EUV200WS-88 200 5000 水冷 见图纸 EUV200DS-88 200 5000 水冷 见图纸 EUV250US-98 200 5000 水冷 见图纸 EUV250WS-1 250 5000 水冷 见图纸 EUV250DS-88 250 5000 水冷 见图纸 EUV300DS-88 300 5000 水冷 见图纸 EUV40DS-88 400 5000 水冷 见图纸 FUV400US-88 400 5000 水冷 见图纸 4. SEN 紫外线UV光清洗的优点:SEN UV灯照度高,照射时间短,使用寿命长, 光衰低(一般在使用7000小时的光衰在60%。) 紫外线UV光清洗技术的应用范围: 液晶显示器件、触摸屏、半导体硅芯片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料主要材料:ITO 玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅芯片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理。可以去除污垢:**性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等 1.各种材料(ITO玻璃,光学玻璃,铬板,掩膜版,抛光石英晶体,硅)晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理; 2.清除石腊,松香,油脂,人体体油以及残余的光刻胶/聚酰亚胺和环氧树脂 3.高精度PCB焊接前的清洗和去除残余的焊剂以及敷铜箔层压板的表面清洁和氧化层生成; 4.**高真空密封技术和热压焊接前的表面清洁处理以及各种微型元件的清洗 5。在LCD、OLED, Touch Panel科研/生产中,在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前经过光清洗,可以较大的提高基体表面润湿性,增强基体表面的粘合力; 6。印制电路板生产中,对铜底板,印刷底板进行光清洗和改质,在导线焊接前进行光清洗,可以提高熔焊的接触面积,大大增加连接强度。特别是高精度印制电路板,当线距达到亚微米级时,光清洗可轻易地去除在线距之间很小的微粒,可以大大提高印制电路板的质量。 7。大规模集成电路的密度越来越高,晶格的微细化越来越密,要求表面的洁净度越来越高,光清洗可以有效地实现表面的原子清洁度,而且对芯片表面不会造成损伤。 8。在半导体生产中,硅晶片涂保护膜、铝蒸发膜前进行光清洗,可以提高粘合力,防止针孔、裂缝的发生 9。在光盘的生产中,沉积各种膜前作光清洗准备,可以提高光盘的质量。 10。磁头固定面的粘合,磁头涂敷,以及提高金属丝的连接强度,光清洗后效果更好。 11。石英晶体振荡器生产中,除去晶体检测后涂层上的墨迹,晶体在银蒸发沉积前,进行光清洗可以提高镀膜质量和产品性能。 12。在IC卡表面插装ROM前,经过光清洗可提高产品质量。 13。彩色滤光片生产中,光清洗后能彻底洗净表面的**污染物。 14。敷铜箔层压板生产中,经过光照改质,不仅表面洁净而且表面形成十分均匀的保护氧化层,产品质量显着提高 15。光学玻璃经过紫外光清洗后,镀膜质量更好。 16。树脂透镜光照后,能加强与防反射板的粘贴性。 典型应用包括: ?表面的原子级清洗,?聚合物粘接, ?去除**分子,?释放捕获的无机分子 ?微流控制作, ?微米/纳米构型,?紫外光固化, ?表面化学改性 ?表面杀菌 ?表面氧化 ?金属粘结准备 ?光酸化水处理,促进酸化水处理 ?光重合反应 SEN UV光清洗, 短短几十秒, 表面**洁净 !